Sprioc -Ábhar Hafnium

Tá na feidhmchláir deiridh is tábhachtaí agus is airde - de na hiarratais sprice hafnium comhchruinnithe sa tionscal leathsheoltóra, atá ina phríomh -ábhar bunúsach fíor -riachtanach.

Ard - κ Dielectric: Is é seo an cur i bhfeidhm is réabhlóideach ar sprioc -ábhair hafnium. De réir mar a laghdaíonn méideanna trasraitheora go dtí an leibhéal nanaiméadar, ní féidir dielectrics geata sileacain thraidisiúnta (SIO ₂) a úsáid mar gheall ar shruth sceite iomarcach. Trí scannán tanaí hafnium sputtered (HFO ₂) a úsáid in ionad SiO ₂, mar gheall ar a tairiseach tréleictreach an -ard (luach kappa), is féidir an éifeacht toilleas céanna a bhaint amach le tiús fisiciúil níos tibhe, ag sochtadh go héifeachtach le sruthanna sceite geata agus ag ligean do dhlí Moore leanúint ar aghaidh. Beagnach gach sliseanna nua -aimseartha nua -aimseartha (ar nós Intel ag tosú ó nóid 45nm) a úsáideann meáin ard -kappa hafnium.

Leictreoid geata miotail: a úsáidtear i gcomhar le dielectrics geata ard Kappa, is féidir scannáin tanaí miotail hafnium a úsáid mar ábhair leictreoidí geata do thrasraitheoirí.

Ciseal bacainní frithsheasmhacha idirleata: I struchtúr idirnasctha na sliseanna, hafnium nó nítríd hafnium (HFN) is féidir le scannáin tanaí a bheith mar shraitheanna bacainn den scoth, a chuireann cosc ​​ar adaimh chopair (Cu) ó dhifreáil isteach i sraitheanna sileacain nó tréleictreach agus feidhmíocht ghléas dochrach.
Caith frithsheasmhach agus creimeadh - sciath frithsheasmhach: I réimsí na n -uirlisí, na múnlaí, na bhfeistí leighis, etc.

Cur síos gairid ar an bpróiseas ullmhúcháin

Ullmhú - Spriocanna Hafnium Cáilíochta Is próiseas dian teicneolaíochta é Hafnium

1. Bruith agus íonú: íonacht ard - a fháil agus tinní a chumrú go haonfhoirmeach trí leá léas leictreon (EBM) nó trí leá arc (var).
Próiseáil phlaisteach: Méid an ghrá a scagadh trí mhodhanna a bhrionnú, a rolladh, agus trí mhodhanna eile chun réamhchruth a chruthú.
2. Miotalóireacht Púdair (coiteann): Is é an próiseas níos príomhshrutha ná púdar hafnium íonachta ard a mhúnlú trí bhrú fuar isostatic (CIP) nó brú te isostatic (cromáin), agus ansin é a shintéiriú faoi ardteocht agus i bhfolús ard chun dlús ard a fháil chun dlús a fháil.
3. Próiseáil Mheicniúil: Próiseáil go beacht an sprioc atá bán go dtí an méid agus an cruth deiridh atá ag teastáil, agus a chinntiú go bhfuil an dromchla nasctha leis an bpláta cúil cothrom go hiomlán.
.

De réir mar a chríochnaíonn an t -ábhar lárnach de ardteicneolaíocht sil -leagan gaile ard -, cinneann feidhmíocht sprioc Hafnium caighdeán an scannáin deiridh agus iontaofacht na feiste go díreach. Chun a fheidhmiúlacht a bhaint amach, ní mór dó na bunriachtanais a bhaineann le príomhghné a chomhlíonadh.

Is é íonacht ard ard an anam de spriocábhair hafnium. Maidir le hiarratais ghrád leathsheoltóra, is iondúil go gcaithfidh íonacht an sprioc -ábhair 99.95% (3N5) ​​nó fiú 99.999% (5n) nó níos airde a bhaint amach. Rachaidh aon eilimintí neamhíonachta rian, amhail iarann, sóidiam, úráiniam, t -thóiriam, etc., isteach sa scannán tanaí le linn an phróisis sputtering, ag éirí gaistí muirir nó ionaid scaipthe iompróra, ag dul in olcas go mór le hairíonna leictreacha an scannáin tanaí (mar shampla soghluaisteacht laghdaithe agus sruthanna méadaithe srutha), a eascraíonn as feidhmíocht chomhtháthaithe nó teipthe ar fáil. Dá bhrí sin, is é Ultra - ard -íonacht an phríomh -réamhriachtanas chun airíonna intreacha na scannán tanaí a chinntiú.

Is iad dlús ard agus microstruchtúr aonfhoirmeach an bonn fisiciúil chun cobhsaíocht an phróisis sputtering a chinntiú. Caithfidh an sprioc -ábhar a bheith beagnach dlúth go hiomlán, gan aon lochtanna ar nós pores nó scoilteanna taobh istigh, agus ní mór an méid gráin a bheith beag agus a dháileadh go cothrom. Is féidir le sprioc -ábhar nach bhfuil dlúth nó a bhfuil microstruchtúr míchothrom aige luaineachtaí a chruthú i ráta foirmithe scannán agus micrea -ardaithe le linn sputtering, as a dtagann truailleáin cháithníní deadly isteach sa scannán tanaí agus ciorcaid ghearra sliseanna a chruthú. Cinntíonn an struchtúr aonfhoirmeach agus grán gráin chomhsheasmhacht an ráta sputtering agus in -atrialltacht an phróisis.

Déanann an comhdhéanamh beacht ceimiceach ábhair sprice hafnium le héagsúlacht fheidhmiúil. De réir cásanna éagsúla feidhmithe, ní mór foirm cheimiceach an sprioc -ábhair a dhearadh agus a rialú go beacht. Is féidir leis a bheith ina sprioc íon miotail íon a úsáidtear chun sraitheanna seoltaí a thaisceadh; Is féidir leis a bheith ina sprioc ocsaíd hafnium (HFO ₂) freisin, a úsáidtear chun scannáin tanaí kappa ard a ullmhú mar dhílteicléas geata do thrasraitheoirí; Is féidir leis a bheith ina sprioc nítríde hafnium (HFN) a úsáidtear chun cótaí frithsheasmhacha nó bacainní idirleata a ghiniúint. Freagraíonn gach comhpháirt le feidhm atá go hiomlán difriúil, agus ní mór a chóimheas eiliminteach a rialú go beacht.

Tá éagsúlacht cruthanna agus méideanna ina riachtanas dosheachanta dá chur i bhfeidhm innealtóireachta. Ní sampla scála saotharlainne é sprioc -ábhar Hafnium, ach táirge tionsclaíoch a chaithfear a mheaitseáil le trealamh sputtering tráchtála. Dá bhrí sin, ní mór é a phróiseáil i gcruthanna sonracha (ciorclach agus dronuilleogach is coitianta), agus ní mór a mhéid a mheaitseáil go foirfe le dearadh an tseomra, le méid an tsubstráit, agus le cúlphláta an mheaisín sputtering chun sil -leagan tanaí aonfhoirmeach a chinntiú i dtáirgeadh scála mór -.

Is príomhfhórsa tiomána é sprioc -ábhar Hafnium don tionscal leathsheoltóra chun bogadh i dtreo ré nanascála. Cé go bhfuil sé i bhfolach taobh istigh de sheomraí an trealaimh déantúsaíochta, cinnfidh na scannáin tanaí beag bídeach a ullmhaíonn sé go díreach feidhmíocht, tomhaltas cumhachta, agus iontaofacht próiseálaithe agus sceallóga eile. Tá sé ar cheann de na hábhair bhunaidh a bhaineann le teicneolaíocht faisnéise nua -aimseartha agus tá breisluach teicniúil an -ard aige.

Clibeanna Te: Hafnium Sprioc -Ábhar, déantúsóirí, soláthróirí, monarcha, monarcha spriocdhírithe hafnium hafnium